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光刻機又名掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統等,是制造芯片的核心裝備 。它采用類似照片沖印的技術,把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上 。光刻機的種類可分為:接觸式曝光、接近式曝光、投影式曝光 。

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光刻機的工作原理是通過一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經物鏡補償各種光學誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上 。然后使用化學方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖 。

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一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序 。光刻機的制造和維護需要高度的光學和電子工業基礎,因此,世界上只有少數廠家掌握 。

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【光刻機是啥東西 光刻機是什么 光刻機是什么東西】光刻機的品牌眾多,根據采用不同技術路線的可以歸納成如下幾類:高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種,分辨率通常七納米至幾微米之間,高端光刻機號稱世界上最精密的儀器,世界上已有1.2億美金一臺的光刻機 。高端光刻機堪稱現代光學工業之花,其制造難度之大,全世界只有少數幾家公司能夠制造 。國外品牌主要以荷蘭ASML,日本Nikon和日本Canon三大品牌為主 。
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