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慕朗迪光刻機(lithography 光刻機是誰發明的)

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品牌型號：慕朗迪光刻機系統：k12

慕朗迪光刻機(lithography 光刻機是誰發明的)

文章插圖
光刻機是法國人Nicephore niepce(尼埃普斯)最初是發明的Nicephore niepce我發現了一個可以刻在油紙上的痕跡 。當它出現在玻璃板上時，經過一段時間的暴露，透明部分會變得非常硬，但不透明部分可以用松香和植物油洗掉 。
【慕朗迪光刻機(lithography 光刻機是誰發明的)】光刻機（lithography）又稱：掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統等，是制造芯片的核心設備 。它采用類似的照片印刷技術，通過光線曝光將掩膜版上的精細圖形印在硅片上 。光刻機的主要性能指標有：支持基板尺寸范圍、分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等 。分辨率是描述光刻工藝加工中最細線精度的方法 。光刻的分辨率受光源衍射的限制，因此受光源、光刻系統、光刻膠和工藝的限制 。對準精度是多層曝光時層間圖案的定位精度 。曝光分為接觸式、投影式和直寫式 。曝光源波長分為紫外線、深紫外線和極紫外線區域，光源有汞燈、準分子激光器等 。