_中芯國際最近暫時放棄光刻機而加快研發n 1工藝，除了自己實力增強，是不是準備硬抗美國禁令代工華為？?9?3 _生活百科

如果華為被美國禁止光刻機，那華為應該怎么應對?涼了?
美國禁止美技術專利不允許公司給華為，生產授權使等。主要的光刻機生有荷蘭的ASML
日本的尼康
佳能
歐泰克。目前都沒表態。我國也有生產商可以生產光刻機，只是性能不如他們的。目前不需要擔心。
為何華為宣布研發光刻機，對AMSL有什么影響？
對AMSL的影同小可。如果中國研發光刻機，那么作為光刻機領頭的AMSL國的蛋糕就會去很大一塊。所以隨著國家隊宣布進軍光刻機領域，作為該領域的巨頭ASML坐不住了。ASML全球副總裁透露，公司將加快在中國市場的布局，幫助中國發展半導體行業。同時強調AMSL是一家全球性公司，秉承開放合作的態度，持續加大投入，擴大產業布局，與中國半導體產業共同發展！
那么為什么之前ASML一直不肯向中國出售高端光刻機，其中最主要的一個桎梏就是美國的限制。如果了解ASML成長經歷的人都應該知道， ASML有今天的地位，與美國的扶持有很大的關系。
如果ASML愿意向國內出售高端光刻機，那么他就需要面臨一些問題。首先就是在核心零部件去美化。只要有使用美國技術，美國肯定是不會同意的。前提是ASML愿意去開發去美化的設備。這樣一來，國內廠商來就可以盡快擺脫被美國卡脖子的局面。
但即便如此，國內的光刻機發展也不能停滯，而且還要加速。因為這樣才可以形成更好地制衡效果，避免再次被人卡脖子。
華為多久能造出光刻機？
最近有傳言正在招聘“光刻工藝工程師” ，因此不少網友紛紛猜測：華為這是打算自己做光刻機嗎？甚至還有人說華為能夠在2年內搞定5nm的光刻機，這就有些太夸張了，事實也并非如此。由于眾所周知的原因，華為在今年很“難過” 。雖然華為通過自研拿出了極為先進的5G芯片麒麟990 ，但是由于不具備芯片制造能力，麒麟芯片只能交由臺積電進行代工。
但是由于臺積電受到了巨大的外界壓力，終于在近期聲明會在9月14日起停止為華為代工芯片。事實上臺積電從今年5月份開始就不再接收華為下的新訂單了，截至目前臺積電已經為華為生產了800萬塊最新的麒麟芯片。

雖然800萬塊芯片從數字上看起來很大，但是相對于華為旗艦手機的銷量只是杯水車薪。根據官方數據，上代華為Mate 30系列上市60天全球銷量就突破了700萬臺。因此800萬麒麟芯片也只夠華為Mate 40系列賣三個月。因此也有傳言稱，華為正在尋求和聯發科甚至三星、高通的合作，前不久華為就一口氣發布了4款搭載聯發科芯片的手機和兩款平板電腦。
但是聯發科等企業同樣也受到外界的壓力，在最嚴重的情況下，華為可能連第三方芯片也無法采購，這樣一來華為的終端業務就將面臨停擺，甚至運營商設備業務也會受到影響。在這個大背景下，華為尋求制造光刻機，走自研芯片的道路也是一個求生的方向。那么華為能夠在短時間內造出光刻機嗎？
很多業內人士都不是特別看好，因為光刻機的原理雖然很多專家都懂，但制造工藝基本上都掌握在歐美發達國家手中。而且用于處理器的光刻機對精度的要求非常高，因為它本身就是用來生產納米級芯片的。以荷蘭的ASML光刻機為例，它每一臺設備都需要實時聯網，通過網絡加載中控程序才能正常運行，而這些運營程序軟件同樣是掌握在外國人手中的。
【_中芯國際最近暫時放棄光刻機而加快研發n 1工藝，除了自己實力增強，是不是準備硬抗美國禁令代工華為？?9?3】毫不夸張的說，一旦ASML把網絡斷了，咱們買回來的光刻機就是一堆廢鐵。而ASML光刻機由售方的技術人員安裝調試完畢之后，就不能移動了，稍微有點異常就會斷網。因此就算那么大一臺ASML光刻機擺在我們面前，我們也很難仿制出一臺。

而華為是一家網絡通信和移動終端企業，基本上沒有什么光刻機的技術儲備。就算現在開始招人做光刻機，沒有上十年的時間和百億級別的投入，是很難看到成果的。更何況我們國家已經有可以生產光刻機的企業，比如上海微電子已經造出了90nm的光刻機，雖然和臺積電的5nm相比差距還有20年，但好歹也有一個具體的方向。所以與其讓華為從無到有打造光刻機，還不如將相關人才集中到上海微電子這樣的國產光刻機企業，發揮出“集中力量辦大事”的精神，花大力氣縮短制造高精度光刻機的時間。

而事實上，這次華為所招聘的“光刻機工藝工程師”也是屬于研發人員，而不是技術人員。這個職位主要是在光刻機代工廠駐場，來監督和把控芯片工藝制造流程的，并不涉及光刻機設備的生產與制造。

所以我認為，華為接下來自己制造光刻機的可能性不高，因為這個難度太大了。但是華為會加強與國內專業芯片供應鏈的合作，比如與中芯國際、上海微電子合作，派駐研發人員一起來攻克光刻機的難關。相信在國內企業的共同努力下，未來一兩年內實現28nm甚至14nm光刻機完全自主還是有可能的。
而到了14nm這個級別，至少用在手機和通信設備上是沒有問題的，可以保證華為的主營業務存續，剩下的則仍然需要慢慢追趕。至少光刻機技術最多也就到1nm ，這就像是龜兔賽跑，雖然對手已經跑出很遠了，但終點就在那里，只要肯投入研發力量，總有一天可以抵達的。

中芯國際最近暫時放棄光刻機而加快研發n 1工藝，除了自己實力增強，是不是準備硬抗美國禁令代工華為？
無辦法之中的辦法，無法突有改：7Nm光刻機極限問題。
根據中芯國際之前所說，在14nm工藝之后，中芯國際還有N 1、N 2代工藝，其中N 1工藝相比于14nm性能提升20％、功耗降低57％、邏輯面積縮小63％， SoC面積縮小55％，之后的N 2工藝性能和成本都更高一些，這兩個工藝都不需要EUV光刻機。
中芯國際繞過光刻機的限制，成功突破了7Nm級。新的過程稱為“n 1” 。其性能與7Nm芯片相當，無需7Nm光刻機即可實現批量生產。中芯國際稱， N 1工藝將于今年年底實現批量生產。
除了N 1 ，中芯國際還在繼續開發N 2工藝，類似于5nm芯片的制造工藝。預計明年差不多能實現批量生產。這樣一來，中芯國際離臺積電的水準，只有一年的時間。
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光刻是半導體芯片制造中最費時間也是最費成本的環節之一，而且它決定了芯片的工藝水平，常說的XXnm工藝主要是看光刻機水平， 10nm工藝之后難度越來越大，光刻機也需要升級到EUV級別。
臺積電在第一代7nm工藝上沒有使用EUV光刻機，但是7nm之后的工藝就很難避開EUV光刻機了，理論上可以用多重曝光的方式制造5nm級別的芯片，但是成本、良率都是個問題，無法拒絕EUV光刻機。
目前EUV光刻機只有荷蘭ASML公司才能生產，單臺售價超過1.2億歐元，約合10億元一臺，此前報道稱中芯國際訂購了一臺EUV光刻機用于先進工藝研發，本應該在2019年交付，不過ASML公司一直沒被批準出售。
華為作為世界500強，卻為什么搞不出高端光刻機
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