光刻機原理

【光刻機原理】1、光刻機制作芯片的過程,基本和“沖印照片”一樣 。假設拍的是風景,膠片上會有曝光痕跡,先要在暗室里顯影,讓風景在膠片上顯示出來 。然后在紅光下通過放大機,把膠片上的風景投射到相紙上,讓相紙曝光 。再通過相紙的顯影、定影、烘干得到最終的照片 。除了風景之外 , “照片沖印”需要有膠片,有光源、放大機、相紙 。
2、對光刻機來說,所謂“風景”就是設計好的集成電路圖(IC),“膠片”就是一塊石英板(光罩) , 用來記錄集成電路圖,“相紙”就是硅晶圓,“放大機”就相當于光刻機 。
3、所不同的是,洗照片是放大,把小膠片放大到相紙上 , 光刻機是縮小,把電路圖縮小到晶圓上 。
4、在光刻機領域 , 有三家國際大牌:荷蘭ASML(艾斯摩爾),日本Nikon(尼康),日本Canon(佳能) 。但高端光刻機市場,荷蘭ASML是無可爭議的世界霸主 , 把第二名都甩得很遠,因為技術難度太高、需要的投資太大,尼康、佳能已經放棄EUV光刻機的研發 。