集成電路是怎樣制造出來

集成電路的制作過程分為以下步驟:
1、首先,晶圓制造廠會將硅純化,溶解成液態 , 從中拉出柱狀的硅晶柱 。一邊旋轉一邊成型 , 旋轉拉起的速度以及溫度的控制影響到整體質量 。晶柱切成薄片,經過拋光后,變成晶圓 。
2、硅純度 , 拉晶速度與溫度控制,晶圓會在無塵的狀態下送到無塵室并分裝到密封的容器中,
3、光罩制作 。光罩廠會將完成的光罩送進晶圓廠 。晶圓上面會事先涂上一層光阻,透過紫外光的照射與凸透鏡聚光效果 。光罩上的電路結構被縮小并烙印在晶圓上,最后印在晶圓上的半導體迴路會從光罩的1微米,變為0.1微米 。光刻制程結束后,工程師會在晶圓上加入離子 。透過注入雜質到硅的結構中控制導電性 , 與一連串的物理過程,制造出電晶體 。
【集成電路是怎樣制造出來】4、待晶圓上的電晶體,二極體等電子元件制作完成后,工程師將銅倒入溝槽中,形成精細的接線 。將許多電晶體連結起來 。導線連接了數億個電晶體 , 即可制作成大型集成電路 。