1、人類過多地使用氯氟烴類化學物質(用CFCs表示)是臭氧層被破壞的主要原因 。氯氟烴是一種人造化學物質 。在第二次世界大戰后 , 尤其是進入20世紀60年代以后,氯氟烴大量用作氣溶膠、制冷劑、發泡劑、化工溶劑等 。
2、另外 , 哈龍類物質(用于滅火器)、氮氧化物也會造成臭氧層的損耗 。
3、發展中國家必須于2005年之前將氟氯烴的排放量凍結在1995-1997年的平均數量上,而發達國家已于1996年間基本停止使用這些消耗臭氧層的主要物質 。
【臭氧層破壞的原因】4、因此,必須積極尋找新的制冷工質來代替氯氟烴類物質,世界各國已經進行了許多新的嘗試 , 主要是應用兩類制冷劑和確定三個發展方向 。
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