等離子體增強化學的氣相沉積法 。
實驗機理：借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強 ， 很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜 。
優點：基本溫度低；沉積速率快；成膜質量好，針孔較少，不易龜裂 。
【PECVD是什么】缺點：設備投資大、成本高 ， 對氣體的純度要求高；對小孔孔徑內表面難以涂層；沉積之后產生的尾氣不易處理 。
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