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每天都要電解去雜質(zhì) 你的方法正確嗎?

電解處理是大家在電鍍工業(yè)中常用的去除雜質(zhì)的方法 。 電解處理亦是一個(gè)電鍍過(guò)程 , 不過(guò)它不是以獲得良好電鍍層為目的 , 而是以去除雜質(zhì)(或調(diào)整鍍液成分含量)為目的 。 所不同的只是在陰極上不吊掛零件 , 而是改為吊掛以去除雜質(zhì)而制作的電解板(又稱假陰極) 。 在通電的情況下 , 使雜質(zhì)在陰極電解板上沉積、夾附或還原成相對(duì)無(wú)害的物質(zhì) 。 在少數(shù)情況下 , 電解去除雜質(zhì)也有在陽(yáng)極上進(jìn)行的 , 使某些能被氧化的雜質(zhì) , 在通電的情況下 , 到達(dá)陽(yáng)極上氧化為氣體逸出或變?yōu)橄鄬?duì)無(wú)害的物質(zhì) 。
一、電解法適用于去除容易在電極上除去或降低其含量的雜質(zhì)
電解法適用于容易在電極上被氧化或還原除去或降低其含量的雜質(zhì) 。 電位較正的雜質(zhì)離子危害大一些 , 容易用電解法去除;反之 , 電位較負(fù)的雜質(zhì)離子危害小一些 。
氰化物對(duì)許多金屬離子都有配位化合作用 , 使得它們的析出電位變負(fù) , 不容易電解析出 。 氰化鍍銅或銅合金、氰化鍍銀、氰化鍍金(包括酸性鍍金)鍍液 , 如果使用低電流電解 , 則成為正常電鍍了 , 陰極上析出的主要是銅或銅合金、銀、金 , 對(duì)去除重金屬雜質(zhì)是無(wú)效的 。 鉛雜質(zhì)雖能和氰化物發(fā)生配位化合反應(yīng) , 鉛雜質(zhì)與氰配位化合離子很不穩(wěn)定 , 在pH值等于4時(shí)幾乎全部水解了 。 Pb“電極電位也比較正 , 容易在陰極低電流區(qū)電沉積 , 因此 , 除酸性鍍硬金鍍液外 , 氰化物鍍液中的鉛雜質(zhì)可以用低電流電解去除 。
而當(dāng)金屬雜質(zhì)的析出電位較負(fù)時(shí) , 需用較大的陰極電流密度電解 , 但是鍍層金屬損失過(guò)大 。 如氯化鉀鍍鋅溶液中的鐵雜質(zhì) , 其影響在中高電流區(qū) , 如果非要用電解去除 , 只能選用大電流處理 , 這樣做則鋅的損失太大了 , 所以不能用電解法而是適合采用化學(xué)法處理 。
【每天都要電解去雜質(zhì) 你的方法正確嗎?】二、電解條件的選擇
這里所指的電解 , 目的是要去除鍍液中的雜質(zhì) , 但是在電解去除雜質(zhì)的同時(shí) , 往往也伴隨有溶液中主要金屬離子的放電沉積 。 為了提高去除雜質(zhì)的速率 , 減慢溶液中主要金屬離子的沉積速率 , 就要注意電解處理的操作條件 。
①電流密度:電解處理時(shí) , 以控制多大的電流密度為好 , 原則上要按照電鍍時(shí)雜質(zhì)起不良影響的電流密度范圍 。 也就是說(shuō) , 在電鍍過(guò)程中 , 若雜質(zhì)的影響反映在低電流密度區(qū) , 那么電解處理時(shí)應(yīng)控制在低電流密度下進(jìn)行 , 假使雜質(zhì)的影響反映在高電流密度區(qū) , 則應(yīng)選用高電流密度進(jìn)行電解;如果雜質(zhì)在高電流密度區(qū)和低電流密度區(qū)都有影響 , 那么可先用高電流密度電解處理一段時(shí)間 , 然后再改用低電流密度電解處理 , 直至鍍液恢復(fù)正常 。 在一般情況下 , 凡是用低電流密度電解可以去除的雜質(zhì) , 為了減少鍍液中主要放電金屬離子的沉積 , 一般都采用低電流密度電解 。 事實(shí)上 , 電鍍生產(chǎn)中 , 多數(shù)雜質(zhì)的影響反映在低電流密度區(qū) , 所以通常電解處理的電流密度控制在O.1A/dm2~O.5A/dm2之間 。
②溫度和pH值:電解處理時(shí)溫度和pH的選擇 , 原則上也是要根據(jù)電鍍時(shí)雜質(zhì)起不良影響較大的溫度和pH范圍 。 例如鍍鎳溶液中的銅雜質(zhì)和NO3-雜質(zhì) , 在pH較低時(shí)的影響較大 , 所以電解去除鍍鎳溶液中的銅雜質(zhì)和NO3-雜質(zhì)時(shí) , 應(yīng)選用低pH進(jìn)行電解 , 在這樣的條件下 , 去除雜質(zhì)的速率較快 。 有些雜質(zhì)在電解過(guò)程中會(huì)分解為氣體(如NO3-在陰極上還原為氮氧化物或氨 , Cl-在陽(yáng)極上氧化為Cl2 , 等 , 這時(shí)就應(yīng)選用高溫電解 , 使電解過(guò)程中形成的氣體揮發(fā)逸出(氣體在溶液中的溶解度 , 一般隨溫度升高而降低) , 從而防止它溶解于水而重新沾污鍍液 。