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刻蝕機和光刻機的區別如下：
1、工藝不同：刻蝕機是將硅片 。上多余的部分腐蝕掉，光刻機是將圖形刻到硅片上 。
2、難度不同：光刻機的難度和精度大于刻蝕機 。
【蝕刻機與光刻機有何區別 蝕刻機和光刻機區別】

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